众所周知，，由于多方面原因的影响，
，，2021年全球迎来了“缺芯时代”，，，，芯片的短缺程度已经达到了30年来最严重的时刻。
。。

而我国由于受到以美国为首的西方国家的联合绞杀
，，
，缺芯的情况尤为严重。。。

中国手机界的领头羊华为，，，，因芯片短缺甚至卖掉了荣耀品牌中心，，，，在美国的针对下
，，，我们似乎显得很被动，，难道有着世界加工厂之称的中国，，就没有能力自主生产芯片吗？
？？？

事实上，，
，，中国在芯片设计领域一直处于世界领先水平
，，，就比如说华为的手机芯片，，，，都是我们自行设计后交给台积电代工生产的
，，，，其性能有目共睹，，并不比美国生产的要差。。

那么，，，，既然我国在设计芯片上没有问题，，，为什么还是被卡住了咽喉呢
？？其中的关键，，，，就在于一种制造芯片必不可少的机器——光刻机
。。。。

其实芯片不过是一块具有精密线路图的硅片，，，，而如何才能将复杂的电路图复刻到硅片上，，
，，这就要靠光刻机了。。
。。

说起来，，，，光刻机的工作原理与照相机有些类似，，在制作芯片时，，，，首先要对硅片进行处理，，
，，一般是在上面涂上一层光刻胶，，
，当光刻胶遇到透过模版照射的光线后，，，
，暴露在紫外线下的部分，，，就会发生特殊的变化
。。。

之后再经过填充金属物
，，，去除光刻胶，，，，进行绝缘处理等步骤，
，，，一块芯片就制作完成了
。
。。

当然，
，，
，至于这块芯片是否能够达到标准，，还要经过精密地检测，，，，要知道，，这其中任意一步处理过程，，可都是纳米级的，，
，所以光刻机绝对称得上人类高精尖仪器的天花板。
。。

提起世界上最顶尖的光刻机制造商，，，，非荷兰的ASML公司莫属。。

这家公司成立于1984年，，，，用了三十多年的时间，
，几乎垄断了全球高端光刻机市场
。。

ASML公司的发家史众人皆知，，
，但恐怕很少有人知道，，，中国早在1977年就拥有了独立制造接触式光刻机的能力，，，，比ASML公司成立的时间还要早上7年。
。

按说，
，，中国在研制光刻机的时间上
，，，，可是比ASML公司有优势的多，，，，可为什么后劲不足，，经过数十年的发展，，反而难以望其项背了呢？
？？？

第二次世界大战结束后，，，，和平和发展成为了国际社会的主题，，
，为了改变中国贫穷落后的局面
，
，，跟上世界科技发展的步伐，，国家决定成立计算机科研小组，
，，，由著名数学家华罗庚担任组长
，
，致力于电子计算机技术的研究和开发。。

到了1956年
，，
，科研小组取得了巨大成就，
，
，，我国首次独立制造了第一只晶体三极管，，由此刻起，，，，中国正式踏足半导体领域
，，，开启了新的科技时代。
。

经过众多科学家的不断探索和尝试
，，
，，中国在半导体领域取得了长足的进步，，1965年，，，，在第一只三极管横空出世的9年之后，，
，，中国的第一块集成电路在上海问世。
。。

而要制造集成电路
，
，，，光刻机是必不可少的设备，，，
，由此我们不难推断出
，，，早在1965年前后，
，我国就已经拥有了制造光刻机的能力。。

1977年，，
，我国更是制造出了GK-3型半自动光刻机，，，这在当时绝对是站在了世界前列。
。。

在此后的数年时间里
，，，中国的半导体事业一路高歌猛进
，
，，光刻机制造技术也跟着水涨船高。。
。

到了80年代，，，中国的半导体技术已经达到了世界先进水平，，虽然比之美国还略有不足，，，但也不再是高山仰止。。。。

如果按照这个势头发展下去
，，，中国在光刻机制造方面，
，，，虽不敢说赶超美国，，，
，但想必差距也不会如此之大。。
。。

毕竟在改革开放之前，，中国整个半导体产业链都能够自给自足，，根本不需要进口
。。。。

但随着改革开放的实行，
，
，国际市场全面放开
，，大批外国企业纷纷涌入中国
，，，这样一来，，，，许多国际上先进的设备和技术，
，，，我们就可以用钱买到了。。。

当时绝大多数企业的当家人都算了这样一笔账，，，如果把投入到科研项目上的资金，，，拿出来用于购买外国的先进设备，，，，似乎更为划算一些，，，毕竟当时的中国经济条件有限
，，
，与其投入大量资金搞研发，，，费时费力，，，，生产出来的设备还没有人家先进
，，
，不如直接买现成的来用，，这样能直接形成经济效益，，岂不美哉？？

结果很多企业也就没了搞开发的动力，，，即便有一些企业依然坚持自力更生，，，但没有足够的资金注入，，，，妄想在光刻机领域更进一步
，
，
，
，无异于痴人说梦。。。

于是从这时起，，中国在光刻机领域就陷入了停摆的状态，，，
，在随后的30年时间里，
，几乎没有一点进步
。。

就当时的国际环境来看，，，这种“造不如买”的想法，，也不能说是错的，，毕竟快速发展经济才是中国的第一要务，
，，，而且当时美国最大的敌人还是苏联
，，
，，中国则是美国拉拢的目标。。。

因此无论是在经济上，，
，，还是在技术上，，美国非但没有限制我们，，还给了我们许多支持
。
。。。

只不过谁也没料到的是，，
，，美中两国的蜜月期会是如此短暂，，，，只经过了十几年时间
，，，美国就翻脸不认人了
。。。。

1996年《瓦尔纳协定》的出炉，，，彻底暴露了美国遏制发展中国家的真实嘴脸。
。。。

该协定中规定了两大类清单的禁运内容，，包括先进材料、
、材料处理、、、电子器件、、、计算机、、、电信与信息安全
、
、、传感与激光
、、、、导航与航空电子仪器、、船舶与海事设备、、推进系统
、
、
、各类武器弹药、、、、设备及作战平台。。。

而中国，，
，便在这禁运名单之内，，直到此时
，
，
，中国才如梦初醒，，，，真切地体会到所谓的国际盟友根本就靠不住，，一切只能依靠自己。。。。

有了这个协定，
，，，中国再想像过去一样，，随时向发达国家购买像光刻机这样的先进设备，
，，就没那么容易了，，
，，换句话说，，，中国能不能买到光刻机，，，，美国说了算。。
。

自《瓦尔纳协定》签署至今，，，中国还没能购买到哪怕一台高端的光刻机，，，，甚至其中的零件都买不到。。

不过在整个90年代，
，世界上的光刻机技术也陷入了瓶颈，
，，光刻光源卡在了193纳米，
，20多年毫无进展
。。。

2000年
，，，中国幡然醒悟，，，光刻机的研发再次受到了国家的重视。。。。

随着越来越多的半导体科研人才从海外归来
，
，2002年3月，，国家在上海成立了上海微电子装备有限公司
，，，致力于光刻机技术开发。
。

也是在这一年，，
，台积电的林本坚博士终于攻破了光刻机193纳米技术难题，，世界光刻机技术开始一路高歌，，
，
，突飞猛进
。。

中国此时则刚刚开始193纳米光刻机的开发，，，
，已经远远落后于世界发达国家，，，，经过了10多年的努力，，，，中国在光刻机技术领域已有了长足的进步，
，，
，但直到今天，，在高端光刻机领域，，，仍然找不到中国的身影。。。

按说有着世界工厂之称的中国，，制造业应该是比较发达的
，
，可为什么制造高端光刻机却把我们给难住了呢？？

如果关注一下我国制造业的讯息，，，，不难发现
，，虽然在某些领域中，，，，中国的制造水平能够进入世界第一梯队，，甚至能够领先世界
，，，，但在很多方面，
，我们依然落后于发达国家良多。。

尤其是高端材料制造业更是中国工业的短板，，就拿高端光刻机中最核心、、也是技术含量最高的零部件，，，，光学镜片和光源来说，，
，，曾经的中国根本就没有能力制造。。。
。

更何况一台高端光刻机，
，
，拥有数万甚至十几万个精密零件组成，，至今为止
，，，，世界上还没有哪个国家能够独立制造高端光刻机，，即便是ASML公司也做不到
。。

ASML公司之所以能够迅速崛起，，，与西方发达国家的支持是密不可分的，，，该公司有一条十分睿智的规定，，那就是想要获得该公司的优先供货权，，，就必须进行投资
。。
。

也就是说，，世界上的发达国家或多或少都拥有ASML公司的股权，，比如台积电，，蔡司，，三星
，，，，英特尔，，，海士力等，，，换句话说，，，
，整个西方世界都是该公司的后盾，
，，，据统计，，，该公司每年用于科研开发的资金就超过了4亿欧元。。

即使强如ASML，，，
，其生产的高端光刻机也有90%以上的零件来自进口，，，比如最核心部分的EUV光源来自德国和美国，，，，光学镜片来自蔡司公司，，，，还有一些零件来自于日本
，，，，我国的台湾省等。。

可以说ASML的成功是众多世界顶级企业一起努力的结果
，，所以它能够成为世界上唯一一个有能力制造7纳米EUV光刻机的公司，
，，丝毫不会让人感到意外。。

除了光学镜片和光源外
，
，，，还有一种看起来不太起眼的材料，，也严重制约了我国芯片制造业的发展，，那就是光刻胶。。。

当然
，，
，光刻胶的技术含量远远比不上光学镜片和光源，
，，但这并不代表着它不重要
。。。。

光刻胶性能越好，
，制造出的芯片质量越优，，，与其他高精尖零件不同的是，，我国完全有能力制造高端光刻胶
，
，，即使不如日本，
，，，也相差不大
。。。

可关键是，
，
，过去我国投资光刻胶生产的企业实在是太少了，，国产的光刻胶根本无法满足中国市场的需求
，
，因此我国的绝大部分光刻胶都要从日本进口，
，一旦日本限制出口量，，，对我国影响巨大。。

由此可见
，，想要完全凭借本国一己之力，，，，打造出一台高端光刻机有多困难，，哪怕就是在去年
，
，，，也有很多专家公开表示，，，中国想要独立制造高端光刻机的希望不大。。

不过我国素来善于创造奇迹，
，
，，尤其是在面对来自外界的压迫时，，更能够爆发出让世界意想不到的力量
，，，由于近几年美国对中国的制裁不断升级，，，，中国不得不加大在芯片制造领域的投资力度。。。。

随着时间的推移，，，中国在光刻机的关键技术领域都取得了喜人的成绩，
，，不久前中科院传出一条喜讯，，，
，清华大学和联邦技术学院合作开发了一种新型粒子加速器，，，，通过实验证明
，，这项技术完全可以为光刻机提供稳定可靠的EUV光源
。
。

无独有偶，，中科科美业同时传来喜讯，，，，其研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也于今年6月28日正式投入使用。。

那么
，，，，镀膜技术跟光刻机又有什么关系
？？

首先我们要了解的是，，，EUV光刻机对光学镜片的光洁度要求相当之高，，，，即表面光洁度不得超过50皮米
，，，，其困难程度不亚于制造一面方圆390000平方公里的镜子。
。

中科科美的这项镀膜技术，
，，，不但能够实现光学镜片的光洁度，
，，，还能实现光学镜片对光的反射、、分束、、、分色、、、
、滤光以及偏振等在不同情况下的特殊要求。。

这两大核心技术的突破，
，使我国在高端光刻机制造领域向前跨了一大步
，，相信假以时日，，中国一定能够具备独立制造高端光刻机的能力。。。。

当然，，即便我们手里有了世界上最先进的光刻机，，
，，也不意味着中国能在芯片制造领域一骑绝尘，，，，相比起这些硬件设备，，，有着“芯片之母”之称的EDA软件则更为棘手
。。。。

想要设计芯片，，，工程师离不开EDA软件，
，虽然由于有能力设计芯片的公司数量有限，，造成EDA软件的市场并不是很大
，，，但它却是制造芯片的第一步，
，离开EDA软件，
，即使拥有世界上最先进的光刻机，，，也不过是一推废铁而已。。。

现今世界上最大的EDA软件商有三家，，分别是Synopsys
、、
、
、Cadence以及Mentor。
。

曾经他们垄断了超过80%的中国市场
，，，不过自从受到美国制裁后，
，，中国政府越发认识到，，像这种买不到的核心技术，，必须进行国产取代，，，才能最大限度地摆脱中国对发达国家的依赖。。
。。

近年来国家和一些大型企业如华为等
，，都在不断增加这方面的投资，，，，只不过想要在技术上取得突破，
，仍然任重而道远。。

华大九天作为国产EDA软件的老大，，，，其制作的软件，
，
，也仅仅只能实现模拟芯片设计和平板设计全流程覆盖，，覆盖率约为 40%。。

此外，，国际上最先进的EDA软件其工艺已经达到了2纳米，，，而国产软件最高端的也仅仅只有一款能够达到5纳米。
。。
。

可以说在设计软件方面，，发达国家已甩了我们好几条街
，，不过可以确定的是，，，华为事件发生之后
，
，，随着国家政策的倾斜
，，以及资本的关注，，，，中国的EDA软件必会奋起直追，
，达到世界一流水平并不遥远。。。

总而言之，，以美国为首的发达国家，，
，
，之所以会联合起来对中国进行全方位的围追堵截，，
，，恰恰是因为中国已经有了威胁他们的资格，
，发达国家尤其是美国惧怕中国进一步发展，，，从而威胁到其世界霸主的地位，，才会无所不用其极的遏制中国发展。。。
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美国的一套组合拳确实给中国带来了很大麻烦，，但这又何尝不是一个让中国优化产业结构，
，摆脱对发达国家依赖的机会？
？

正所谓危机
、
、
、、危机，，，，危中有机，，如果中国通过这次教训，，
，能够认清现实
，，，，未尝不能转危为机！！